原子尺度的工程探索

微小薄层。
无限可能。

连接 ALD 设备、工艺开发与模拟,从表面化学走向功能薄膜。

原创概念图:图案化基底上的共形原子层
概念示意 · 非按比例绘制
从表面出发设备 / 化学 / 计算

相互连接的方法

三个视角。
同一个材料挑战。

反应器定义环境,化学定义反应,模拟帮助解释结果。我们的规划技术方向将这些视角连接起来。

公司初期展示。技术方向正在定义中;插图为概念示意,并非产品照片。

薄层背后的科学

精确控制,
始于表面。

ALD 通过吹扫步骤分隔反应物暴露。在合适条件下,每次暴露使可用表面位点趋于饱和;重复循环构建薄膜,其生长取决于化学与工艺条件。

了解工艺开发
01

前驱体 A

02

吹扫

03

反应物 B

04

吹扫

循环示意。每周期生长量取决于化学体系;一个循环并不一定沉积完整原子单层。

ALD 研究观察

启发下一层
创新的思路。

全部研究动态

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无论是材料挑战、反应器构想还是模拟问题,都可以从这里开始,为后续技术讨论做准备。

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