陈蓉
教授
中国科学技术大学本科；斯坦福大学硕士、博士；AMAT 与 Intel 高级技术职务。
荣誉：长江学者、国家万人领军、海外青千。
研究重点原子层沉积方法、工艺与装备。
团队成员
探索下一层创新
背后的团队。
汇聚薄膜工艺、计算模拟与 ALD 能源应用方向的专业经验。
研究方向
薄膜工艺方法与技术应用
表面化学、选择性沉积、ALD 器件与薄膜检测。
曹坤
教授
华中科技大学本科、硕士、博士；具有博士后研究经历。
研究重点选择性沉积工艺与应用。
杨帆
副研究员
华中科技大学本科；微电子所硕士；西班牙博士；美国圣地亚哥博士后。
研究重点ALD 工艺与器件、SALD（空间原子层沉积）。
张晓东
副教授
北京航空航天大学本科；杜克大学博士；哈佛大学博士后。
研究重点高真空镀膜工艺与检测。
研究方向
理论与仿真模拟
连接原子级反应与工程尺度行为的计算方法。
单斌
教授
清华大学本科；斯坦福大学博士。
研究重点跨尺度计算方法、势场模拟。
高远
教授
上海交通大学本科；弗吉尼亚大学（UVA）博士；UIUC 博士后。
荣誉：海外优青。
研究重点有限元仿真、分子动力学。
文艳伟
副教授
武汉大学本科、硕士、博士；华中科技大学博士后。
研究重点DFT（密度泛函理论）、微反应动力学。
研究方向
ALD 能源应用
面向新能源与催化应用的颗粒包覆和 ALD 材料。
刘潇
副教授
华中科技大学本科、硕士、博士；具有博士后研究经历。
研究重点颗粒原子层沉积、新能源应用。
杜纯
副教授
中国科学技术大学本科；波士顿学院博士。
研究重点新能源催化 ALD 材料。